臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ,除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ,設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商 ,
日前有報(bào)道稱 ,注國
內(nèi)工在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,工藝國產(chǎn)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角
臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ,除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ,設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商 ,
日前有報(bào)道稱 ,注國
內(nèi)工在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,工藝國產(chǎn)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角