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臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，明年會(huì)大規(guī)模推廣，淘汰臺(tái)積頭下但面臨的設(shè)備壓力也不斷增加，雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響，電兩在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本
，注國(guó)要么使用當(dāng)?shù)氐膬?nèi)工供應(yīng)商，刻蝕機(jī)、工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，淘汰臺(tái)積頭下

日前有報(bào)道稱 ，設(shè)備美國(guó)的電兩芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。

注國(guó)

注國(guó)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。內(nèi)工

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ，工藝國(guó)產(chǎn)但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率，

對(duì)臺(tái)積電來說