明年會(huì)大規(guī)模推廣 ，工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割 ，設(shè)備除了光刻機(jī)前景尚無明確消息
，電兩28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)