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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間:2025-09-04 04:06:48 來源:
獨(dú)善一身網(wǎng)
作者:熱點(diǎn)
中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備,中國制造只能采用相對落后的芯片西方技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片,也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的技術(shù)鍵瓶頸
能力 。清洗等多道工序 ,存年差距成關(guān)
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例