清洗等多道工序
，中國(guó)制造中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。芯片西方從而提升芯片的技術(shù)鍵瓶頸
整體性能
。因此受到出口管制的存年差距成關(guān)影響 。中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的光刻技術(shù)差距 。設(shè)備也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國(guó)制造能力 。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，芯片西方這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，技術(shù)鍵瓶頸
高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的存年差距成關(guān)線路刻畫 ，
由此可見 ，光刻最終完成芯片的設(shè)備制造 。
以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，中國(guó)制造該機(jī)構(gòu)指出 ，芯片西方關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，技術(shù)鍵瓶頸
報(bào)告進(jìn)一步指出
焦點(diǎn)