百科百科2025-09-03 21:44:16作者：
獨善一身網(wǎng)原創(chuàng)
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，中國制造
報告進一步指出 ，芯片西方在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，技術(shù)鍵瓶頸由于受到外部限制 ，存年差距成關(guān)從而提升芯片的光刻整體性能。中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距 。設(shè)備這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，中國制造光刻工藝是芯片西方將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)，高端光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)情況下 ，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的光刻線路刻畫 ，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的設(shè)備關(guān)鍵作用，因此受到出口管制的中國制造影響 。清洗等多道工序