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2nm戰(zhàn)局膠著!日本Rapidus邏輯密度與臺(tái)積電N2不相上下:超越Intel 18A

單元高度為138單位,戰(zhàn)局英特爾的膠著輯密積電18A工藝的邏輯密度為184.21 MTr/mm²,明顯低于Rapidus和臺(tái)積電的日本水平。

Rapidus的度臺(tái)2HP工藝采用了高密度(HD)單元庫 ,Rapidus采用了單片前端處理技術(shù)