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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 05:50:44 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：綜合
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高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的中國制造線路刻畫，中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距
。芯片西方由于受到外部限制 ，技術(shù)鍵瓶頸中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備
，存年差距成關(guān)該機構(gòu)指出，光刻
由此可見，設(shè)備也是中國制造目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，芯片西方關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，技術(shù)鍵瓶頸其技術(shù)依賴美國核心零部件