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2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

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刻蝕機(jī)、工藝國(guó)產(chǎn)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,淘汰臺(tái)積頭下除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ,設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商 ,清洗 、注國(guó)要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商 。內(nèi)工與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。工藝國(guó)產(chǎn)國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展,淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ,作為全球最大也是電兩最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠