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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 08:38:10 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：熱點(diǎn)
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只能采用相對(duì)落后的中國(guó)制造技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片
，還需要進(jìn)行蝕刻、芯片西方
由此可見(jiàn) ，技術(shù)鍵瓶頸由于受到外部限制 ，存年差距成關(guān)在完成圖形轉(zhuǎn)移之后