中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距。中國(guó)制造最終完成芯片的芯片西方制造
。光刻工藝是技術(shù)鍵瓶頸
將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)，該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)情況下 ，該報(bào)告特別指出
，光刻因此受到出口管制的設(shè)備影響。這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的中國(guó)制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。還需要進(jìn)行蝕刻
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