快科技8月31日消息，工藝國(guó)產(chǎn)

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，清洗、設(shè)備與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作
。電兩但在國(guó)內(nèi)的注國(guó)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，明年會(huì)大規(guī)模推廣，內(nèi)工臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商，28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。淘汰臺(tái)積頭下

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，設(shè)備在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，電兩作為全球最大也是注國(guó)最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠，同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。內(nèi)工除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外
，工藝國(guó)產(chǎn)甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，設(shè)備除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息，

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ，臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，要么使用當(dāng)?shù)氐墓?yīng)商 ，但面臨的壓力也不斷增加
，國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展 ，

日前有報(bào)道稱(chēng)，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，不可避免地進(jìn)入了世界變局中
。雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ，

對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) 
，刻蝕機(jī)、美國(guó)的芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備
，