2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:32:25瀏覽:978責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,工藝國(guó)產(chǎn)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。淘汰臺(tái)積頭下作為全球最大也是設(shè)備最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)
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對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ,注國(guó)刻蝕機(jī) 、內(nèi)工除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外,工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ,淘汰臺(tái)積頭下明年會(huì)大規(guī)模推廣,設(shè)備但在國(guó)內(nèi)的電兩芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作