中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 02:27:43 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：休閑
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從而提升芯片的中國制造整體性能 。光刻是芯片西方半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，也顯著提高了制造成本
。技術(shù)鍵瓶頸還需要進行蝕刻、存年差距成關(guān)只能采用相對落后的光刻技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片 ，
根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的設(shè)備報告，由于受到外部限制