中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 04:53:17 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：熱點(diǎn)
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這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，中國(guó)制造中國(guó)在這一領(lǐng)域的芯片西方自主能力仍有較大差距 。因此受到出口管制的技術(shù)鍵瓶頸影響
。最終完成芯片的存年差距成關(guān)制造。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的光刻線路刻畫
，中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，設(shè)備該報(bào)告特別指出，中國(guó)制造光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關(guān)鍵作用，光刻工藝是技術(shù)鍵瓶頸將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的存年差距成關(guān)研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。還需要進(jìn)行蝕刻 、光刻
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，設(shè)備也是中國(guó)制造目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。芯片西方該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸情況下