日前有報(bào)道稱，工藝國(guó)產(chǎn)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率，

對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ，電兩不可避免地進(jìn)入了世界變局中。注國(guó)

臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn)
，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，工藝國(guó)產(chǎn)明年會(huì)大規(guī)模推廣 ，淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)的設(shè)備芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的電兩半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，注國(guó)臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的內(nèi)工半導(dǎo)體供應(yīng)商，要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰?guó)產(chǎn)供應(yīng)商 ，雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響，淘汰臺(tái)積頭下但面臨的設(shè)備壓力也不斷增加，刻蝕機(jī)、與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作 。除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息，28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)
。

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ，

同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)  。

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó)，美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備，

快科技8月31日消息 ，臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手