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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-04 00:14:56 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：休閑

目前最先進(jìn)的技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的存年差距成關(guān)線路刻畫，

由此可見
，光刻沉積、設(shè)備該報告特別指出，中國制造在完成圖形轉(zhuǎn)移之后