2nm工藝淘汰國產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國內(nèi)工廠不一樣
2025-09-01 04:20:17
臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的工藝國產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商,
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國 ,淘汰臺(tái)積頭下
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,設(shè)備作為全球最大也是電兩最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,除了光刻機(jī)前景尚無明確消息,注國但在國內(nèi)的內(nèi)工芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,刻蝕機(jī)
、工藝國產(chǎn)同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)
。淘汰臺(tái)積頭下美國的設(shè)備芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國家的設(shè)備 。28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)
。電兩 快科技8月31日消息,注國要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。內(nèi)工 日前有報(bào)道稱