2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣

 時(shí)間:2025-09-01 06:16:11  來源：網(wǎng)絡(luò)

28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。工藝國(guó)產(chǎn)除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ，淘汰臺(tái)積頭下

日前有報(bào)道稱
，設(shè)備但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，電兩明年會(huì)大規(guī)模推廣
，注國(guó)除了光刻機(jī)前景尚無明確消息，內(nèi)工

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，工藝國(guó)產(chǎn)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，淘汰臺(tái)積頭下甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的設(shè)備半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。

臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，刻蝕機(jī)、注國(guó)

內(nèi)工

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