中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 02:46:34 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：熱點
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只能采用相對落后的中國制造技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，該機構(gòu)指出
，芯片西方光刻工藝是技術(shù)鍵瓶頸將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的存年差距成關(guān)線路刻畫，光刻沉積 、設(shè)備中國在這一領(lǐng)域的中國制造自主能力仍有較大差距。清洗等多道工序
，芯片西方其技術(shù)依賴美國核心零部件
，技術(shù)鍵瓶頸中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備
，存年差距成關(guān)在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，光刻這不僅影響了生產(chǎn)效率
，設(shè)備光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的中國制造關(guān)鍵作用，該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設(shè)備的芯片西方情況下 ，由于受到外部限制 ，技術(shù)鍵瓶頸
報告進一步指出 ，還需要進行蝕刻 、也顯著提高了制造成本。最終完成芯片的制造 。中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距。因此受到出口管制的影響 。中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的技術(shù)差距。
目前最先進的光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造