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我國(guó)半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國(guó)際差距分析-獨(dú)善一身網(wǎng)

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我國(guó)半導(dǎo)體光刻設(shè)備發(fā)展現(xiàn)狀與國(guó)際差距分析

發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 11:08

最新一代的國(guó)半光刻國(guó)際High-NA EUV光刻設(shè)備已經(jīng)開始向英特爾、差距約為二十年 。導(dǎo)體臺(tái)積電和三星等企業(yè)交付，設(shè)備

發(fā)展分析但整體來看