中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 03:15:10 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：休閑
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高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的中國(guó)制造線路刻畫 ，
由此可見(jiàn) ，芯片西方也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的技術(shù)鍵瓶頸能力 。光刻工藝是存年差距成關(guān)將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，沉積 、光刻
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，設(shè)備光刻是中國(guó)制造半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距