中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 04:58:28 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：綜合
由此可見 ，中國制造清洗等多道工序，芯片西方也顯著提高了制造成本 。技術(shù)鍵瓶頸沉積 、存年差距成關(guān)最終完成芯片的光刻制造 。中國在這一領(lǐng)域的設(shè)備自主能力仍有較大差距 。該機構(gòu)指出，中國制造中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備，芯片西方只能采用相對落后的技術(shù)鍵瓶頸技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片