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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 00:14:53 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：焦點(diǎn)
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也是中國(guó)制造目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙
。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的芯片西方線路刻畫(huà)，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，技術(shù)鍵瓶頸中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，存年差距成關(guān)光刻是光刻半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)