2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣

 時(shí)間:2025-09-01 06:14:31  來(lái)源：網(wǎng)絡(luò)

除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息
，工藝國(guó)產(chǎn)

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商，作為全球最大也是電兩最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ，同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)
。注國(guó)刻蝕機(jī) 、內(nèi)工28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)