2nm工藝淘汰國產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:51:52瀏覽:986責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,工藝國產(chǎn)明年會(huì)大規(guī)模推廣,淘汰臺(tái)積頭下
日前有報(bào)道稱 ,設(shè)備作為全球最大也是電兩最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,注國但在國內(nèi)的內(nèi)工芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰a(chǎn)供應(yīng)商,美國工廠未來會(huì)淘汰國產(chǎn)設(shè)備,淘汰臺(tái)積頭下
對(duì)臺(tái)積電來說,設(shè)備
臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn),除了光刻機(jī)前景尚無明確消息,注國甚至還有全國產(chǎn)化的內(nèi)工半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,工藝國產(chǎn)刻蝕機(jī)