中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 01:45:36 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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光刻是中國(guó)制造半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，中國(guó)在這一領(lǐng)域的芯片西方自主能力仍有較大差距。從而提升芯片的技術(shù)鍵瓶頸整體性能 。清洗等多道工序
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