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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 00:16:11 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：熱點(diǎn)
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中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的中國制造技術(shù)差距。光刻工藝是芯片西方將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)
，因此受到出口管制的技術(shù)鍵瓶頸影響 。中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備
，存年差距成關(guān)中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距