2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:18:17瀏覽:394責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割
,工藝國(guó)產(chǎn)國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展
,淘汰臺(tái)積頭下甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的設(shè)備半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,電兩
臺(tái)積電最新的注國(guó)2nm工藝將于今年底量產(chǎn),美國(guó)的內(nèi)工芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息