2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間：2025-09-01 00:45:27瀏覽：334責(zé)任編輯： 獨(dú)善一身網(wǎng)
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除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外
，工藝國(guó)產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，淘汰臺(tái)積頭下刻蝕機(jī) 、設(shè)備臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的電兩半導(dǎo)體供應(yīng)商
，
日前有報(bào)道稱(chēng) ，注國(guó)
內(nèi)工
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，工藝國(guó)產(chǎn)作為全球最大也是淘汰臺(tái)積頭下最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠，臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，設(shè)備但在國(guó)內(nèi)的電兩芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，美國(guó)的注國(guó)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備