除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ，工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠(chǎng)商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠(chǎng)則會(huì)加大本土化的比率，要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商 ，臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商
，同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)