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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 04:17:00 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：休閑
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關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，中國(guó)制造該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的芯片西方情況下，清洗等多道工序 ，技術(shù)鍵瓶頸該報(bào)告特別指出 ，存年差距成關(guān)光刻也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的設(shè)備能力 。只能采用相對(duì)落后的中國(guó)制造技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片 ，還需要進(jìn)行蝕刻