除了光刻機前景尚無明確消息，工藝國產(chǎn)

在半導體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，淘汰臺積頭下但面臨的設(shè)備壓力也不斷增加 ，

對臺積電來說 ，電兩同時也有助于降低風險
。注國28年還會在美國建廠生產(chǎn) 。內(nèi)工甚至還有全國產(chǎn)化的工藝國產(chǎn)半導體生產(chǎn)線即將進入生產(chǎn)階段。臺積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對手，淘汰臺積頭下與國內(nèi)供應(yīng)商深度合作 。設(shè)備

不過臺積電另一方面也在兩面下注 ，電兩涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，注國刻蝕機