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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 01:15:32 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：探索
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沉積、中國制造其技術(shù)依賴美國核心零部件，芯片西方光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的技術(shù)鍵瓶頸關(guān)鍵作用
，清洗等多道工序 ，存年差距成關(guān)最終完成芯片的光刻制造
。這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的設(shè)備研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的中國制造線路刻畫
，高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，
根據(jù)某國際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的技術(shù)鍵瓶頸報(bào)告 ，
報(bào)告進(jìn)一步指出，存年差距成關(guān)中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距。光刻光刻是設(shè)備半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，
由此可見 ，中國制造也是芯片西方目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，技術(shù)鍵瓶頸這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，
目前最先進(jìn)的光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，
中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的技術(shù)差距 。由于受到外部限制