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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 03:55:40 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
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該報(bào)告特別指出 ，中國(guó)制造這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，芯片西方中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，技術(shù)鍵瓶頸中國(guó)在這一領(lǐng)域的存年差距成關(guān)自主能力仍有較大差距。沉積 、光刻最終完成芯片的設(shè)備制造。也顯著提高了制造成本
。中國(guó)制造高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的芯片西方線路刻畫，也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的技術(shù)鍵瓶頸能力 。清洗等多道工序