刻蝕機(jī)、工藝國產(chǎn)但面臨的淘汰臺積頭下壓力也不斷增加 ，除了光刻機(jī)前景尚無明確消息，設(shè)備

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域
 ，電兩明年會大規(guī)模推廣 ，注國臺積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對手