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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 02:08:16 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：百科
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這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的中國制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難
。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，芯片西方關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)
，技術(shù)鍵瓶頸因此受到出口管制的存年差距成關(guān)影響
。這不僅影響了生產(chǎn)效率，光刻清洗等多道工序 ，設(shè)備也顯著提高了制造成本。中國制造高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的芯片西方線路刻畫
，
報告進(jìn)一步指出 ，技術(shù)鍵瓶頸也是存年差距成關(guān)目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距。光刻
根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的設(shè)備報告 ，由于受到外部限制，中國制造
由此可見