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2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

2025-09-01 03:59:49

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ,設(shè)備明年會(huì)大規(guī)模推廣 ,電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角 ,內(nèi)工但在國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ,但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備