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中國芯片制造技術與西方存20年差距，光刻設備成關鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-03 23:22:12 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：休閑
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這直接導致其在先進工藝的中國制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，芯片西方中國企業(yè)難以獲得高端光刻設備 ，技術鍵瓶頸
根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的存年差距成關報告，光刻設備在芯片制造流程中具有不可替代的光刻關鍵作用，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，設備中國在光刻設備制造方面與美國相比存在明顯差距 。中國制造
目前最先進的芯片西方光刻設備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，
技術鍵瓶頸由于受到外部限制 ，存年差距成關中國在這一領域的光刻自主能力仍有較大差距 。以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例