2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣

 時(shí)間:2025-09-01 06:05:22  來(lái)源：網(wǎng)絡(luò)

在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，工藝國(guó)產(chǎn)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，設(shè)備雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響，電兩同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。注國(guó)臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的內(nèi)工半導(dǎo)體供應(yīng)商，但在國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率