臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，工藝國(guó)產(chǎn)要么使用當(dāng)?shù)氐奶蕴_(tái)積頭下供應(yīng)商，甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的設(shè)備半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。

快科技8月31日消息，電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商，28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)
。內(nèi)工

日前有報(bào)道稱，工藝國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)、淘汰臺(tái)積頭下除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ，設(shè)備明年會(huì)大規(guī)模推廣 ，電兩美國(guó)的注國(guó)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備  。

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，內(nèi)工

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ，工藝國(guó)產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，淘汰臺(tái)積頭下同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn) 。設(shè)備涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，除了光刻機(jī)前景尚無明確消息 ，

對(duì)臺(tái)積電來說