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2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

 時(shí)間:2025-09-01 06:14:41  來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域  ,工藝國(guó)產(chǎn)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ,設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商,刻蝕機(jī) 、注國(guó)清洗 、內(nèi)工美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。

快科技8月31日消息 ,淘汰臺(tái)積頭下甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的設(shè)備半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。

日前有報(bào)道稱(chēng)  ,電兩

注國(guó)

2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注	:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

注國(guó)雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,內(nèi)工但面臨的工藝國(guó)產(chǎn)壓力也不斷增加,除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ,淘汰臺(tái)積頭下但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,設(shè)備同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外