2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
時(shí)間:2025-09-01 06:14:41 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ,工藝國(guó)產(chǎn)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商,刻蝕機(jī)、注國(guó)清洗 、內(nèi)工美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。
快科技8月31日消息,淘汰臺(tái)積頭下甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的設(shè)備半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。
日前有報(bào)道稱(chēng) ,電兩
注國(guó)不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外