2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣

 時(shí)間:2025-09-01 06:12:11  來(lái)源：網(wǎng)絡(luò)

臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，工藝國(guó)產(chǎn)明年會(huì)大規(guī)模推廣，淘汰臺(tái)積頭下

日前有報(bào)道稱(chēng)，設(shè)備雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響，電兩28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。注國(guó)

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，內(nèi)工刻蝕機(jī)