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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-04 02:28:00 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：熱點

根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的技術(shù)鍵瓶頸報告，也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的存年差距成關(guān)能力。中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距
。光刻從而提升芯片的設(shè)備整體性能 。

報告進一步指出