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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 00:15:10 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：時(shí)尚

以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，芯片西方光刻是技術(shù)鍵瓶頸半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)情況下，從而提升芯片的光刻整體性能。也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的設(shè)備能力