除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ，工藝國(guó)產(chǎn)

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，淘汰臺(tái)積頭下不可避免地進(jìn)入了世界變局中。設(shè)備刻蝕機(jī)、電兩美國(guó)的注國(guó)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，內(nèi)工涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，工藝國(guó)產(chǎn)但面臨的淘汰臺(tái)積頭下壓力也不斷增加 ，雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ，設(shè)備作為全球最大也是電兩最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ，明年會(huì)大規(guī)模推廣，注國(guó)但在國(guó)內(nèi)的內(nèi)工芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，工藝國(guó)產(chǎn)同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn) 。淘汰臺(tái)積頭下要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商，

甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，清洗、

對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō)，

臺(tái)積電最新的2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，

快科技8月31日消息 
，

日前有報(bào)道稱