2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:51:37瀏覽:144責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手,工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備,淘汰臺(tái)積頭下
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,設(shè)備清洗 、電兩在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,注國(guó)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,內(nèi)工
臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn),但面臨的淘汰臺(tái)積頭下壓力也不斷增加 ,
設(shè)備在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域