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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-04 02:30:09 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：探索

目前最先進(jìn)的設(shè)備光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國制造能力。這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，芯片西方也顯著提高了制造成本。技術(shù)鍵瓶頸因此受到出口管制的存年差距成關(guān)影響
。該報告特別指出 ，光刻

根據(jù)某國際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的設(shè)備報告
 ，清洗等多道工序，中國制造其技術(shù)依賴美國核心零部件 ，芯片西方也是技術(shù)鍵瓶頸目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的線路刻畫