同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體供應(yīng)商
，明年會(huì)大規(guī)模推廣
，設(shè)備美國(guó)的電兩芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域
，注國(guó)

臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備