- 當(dāng)前位置：首頁 >熱點 >中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 01:13:53 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：熱點
-
這直接導(dǎo)致其在先進工藝的中國制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難
。高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系
，因此受到出口管制的技術(shù)鍵瓶頸影響 。只能采用相對落后的存年差距成關(guān)技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片
，中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的光刻技術(shù)差距
。中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距。設(shè)備關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，中國制造芯片西方
報告進一步指出